小型真空镀膜机 可制备各种金属薄膜 离子磁控溅射仪

小型溅射仪 KT-Z1650PVD 是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反 馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对 大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀 的薄膜，可制备各种金属薄膜。 设备名称 小型溅射仪 控制方式 7 寸人机界面 手动 自动模式切换控制 工作电源 直流溅射电源 镀膜功能 0-999 秒 5 段可变换功率及挡板位和样品速度程序 功率 ≤1000W 输出电压电流 电压≤1000V 电流≤500mA 真空 机械泵 ≤5Pa（5 分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa 溅射真空 ≤10Pa 挡板类型 电控 真空腔室 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm