科研小型磁控溅射优点 真空镀膜机

磁控溅射优点

(1)沉积速率快,沉积效率高,适合工业生产大规模应用;

(2)基片温度低,适合塑料等不耐高温的基材镀膜;

(3)制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强;

(4)可制备金属、合金、氧化物等薄膜;